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会在基片上面散布开来，但是只有恰好与纳米图形相合的组装体才能落
基片里，其他排列不整齐的组装体，都留在了基片外表的那层膜上。
最后再揭掉那层膜，就可以实现组装体按需要规则排列。
是的，目前的碳基芯片还是一样需要使用光刻及电子束刻蚀等技术，才能得到纳米级的电子图形。
并没有一些
想象的那么轻松，换了一种材料就可以甩开一切束缚。
因为这种微观层面的加工能力是芯片所必须的。
哪怕不用光刻机，也会有暗刻机、明刻机……
陈神对此也早有心理准备，不过他还是希望能够找出一种不需要光刻机的工艺。
毕竟纳米图形的加工能力也不是只有光刻机才拥有的。
他如果等待国内光刻机研发的话，那完全就是
费了他手上的碳基芯片技术。
看完这些数据，继续往下翻，很快就让他发现了一篇不一样的论文。
《dna定向纳米制备高
能碳纳米管场效应晶体管》
这同样是圆明园职院的一位教授所发表的论文。
这篇论文以dna模板法制备的平行碳纳米管阵列作为模型系统，开发了一种先固定后冲洗的方法，将基于碳纳米管阵列的效应晶体管关键传输能指标提高了10倍以上。
说话，就是在高能电子和生物分子自组装的界面上，这种方法可以用可伸缩的dna生物模板来制作纳米级的电子图形。
也就是说，不需要光刻机！
